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4. レーザ一生成プラズマ光源4.2 高出力レーザー生成プラズマEUV光源の開発

机译:4.激光产生的等离子光源4.2大功率激光产生的等离子EUV光源的开发

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摘要

レーザー生成プラズマ(Laser Produced Plasma,以下LPPと記す)方式EUV光線は固体,気体,液体等のターゲットをパルスレーザーで照射して発生する商胆プラズマからのEUV放射光を利用する.従来からレーザープラズマは小型である点を生かして研究用をはじめとしてⅩ線源として広範な研究開発が行われてきている.固体の場合にはCu等の金属が,気体の場合にはAr,Kr,Ⅹe等の希ガスを高速ガスバルブで其卦11に噴出させてターゲットとして利用されている.リソグラフィ畑ではこれらの研究寅レベルの北源とは此掛こならない南平均出力が商い安定度と経済性とともに要求される.そのため,これらの厳しい要求に適合するためにいくつかの最適化が試みられてきている.以下ではEUVAで開発を進めているLPP方式高出力EUV光源を例に,システムの構成と開発の現状と課題について述べる.
机译:激光产生等离子体(以下称为LPP)方法EUUV光使用来自商业等离子体的EUV辐射,该商业等离子体是通过用脉冲激光照射诸如固体,气体或液体等目标物而产生的。传统上,利用等离子体的小尺寸,已经广泛地研究和开发了激光等离子体作为X射线源,包括用于研究目的。在固体的情况下,通过高速气阀将诸如Cu的金属喷射到gu 11中,在气体的情况下,将Ar,Kr,Xe等稀有气体用作目标。在光刻领域,需要南部平均产量与这些研究虎水平的北部来源不匹配的产品,以及商业稳定性和经济效率。因此,已经尝试了一些优化来满足这些严格的要求。下面以EUVA正在开发的LPP大功率EUV光源为例,介绍系统配置以及开发的现状和问题。

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