低圧高密度プラズマプロセスによるナノクリスタルダイヤモンド粒子の合成と表面構造解析

摘要

化学的気相成長法（CVD）やエッチングに代表されるプラズマプロセスにおいては，低圧（＜1Torr），大面積（＞φ12インチ），且つ高密度（＞1012cm~(-3)）のプラズマが求められている。 それらの要求を満足するプラズマ源として最初に電子サイクロトロン共鳴（ECR）プラズマが開発され，引き続いてヘリコン波励起プラズマ，表面波励起プラズマが提案され活発な研究が行われてきた。 一方，低圧誘導結合プラズマ（ICP）もまた低圧力で，しかも無磁場で高密度を実現できるプラズマ源として注目を集め，精力的な研究が進められている。 また最近では，発想を変えて『必要な場所に必要な大きさのプラズマを生成』し，ミクロなスポット領域でプロセスを行う『マイクロプラズマ』が脚光を浴びている。