UV/光電子クリーニング法の半導体搬送ボックスヘの応用

摘要

半導体製造プロセスでは，ウェハの汚染防止のためウェハボックス自身へのクリーニング機能の付加が求められている。 光触媒を用いたUV/光電子法は，これに対応したクリーニング技術である。