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【24h】

大気圧プラズマおよび低圧パルスプラズマCVD技術

机译:大气压和低压脉冲等离子体CVD技术

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摘要

今回は、最近注目を集めつつある大気圧プラズマCVD関連技術の開発動向として、スウェーデンのUppsala大学のホローカソードプラズマ源、オランダ国立研究機関TNO-TPDの各種プラズマ源を用いた大気圧プラズマCVD技術、英国のCVD Technologies社の大気圧プラズマCVD、ドイツ·IST(フラウンホーファー表面工学·薄膜研究所)のダイエレクトリックバリア放電CVDを、また低圧パルスプラズマCVDとして、米国APT社のウエブコーター用新型プラズマソースをまとめて紹介する。
机译:这次,随着近来引起人们注意的大气压等离子体CVD相关技术的发展趋势,瑞典乌普萨拉大学的空心阴极等离子体源,利用荷兰国家研究机构TNO-TPD的各种等离子体源的大气压等离子体CVD技术,英国CVD Technologies的常压等离子体CVD,德国IST(Fraunhofer表面工程和薄膜研究所)的电阻挡放电CVD和美国APT幅材涂布机的新型等离子体源(作为低压脉冲等离子体CVD)。我将一起介绍它们。

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