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リソグラフィプロセス向け植物由来の水溶性レジスト材料開発

机译:用于光刻工艺的植物来源的水溶性抗蚀剂材料的开发

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摘要

富山県立大学工学部機械システム工学科の竹井敏准教授、花畑誠客員教授は、基板上にフォトレジストのパターンを形成するリソグラフィプロセス向けに、植物由来の水溶性高分子材料を開発した。波長が365nmと比較的低エネルギーの光でも線幅300nmパターンの高解像度で、アルカリ現像液などを使う従来工法に比べて、電子デバイス製造の低コスト化や環境負荷低減につながる。
机译:富山县立大学工程学系机械系统工程学系副教授竹井聪俊和客座花田诚教授已经开发了一种植物衍生的水溶性聚合物材料,用于在基板上形成光刻胶图案的光刻工艺。即使使用波长为365 nm的相对较低能量的光,它也具有300 nm的线宽的高分辨率,与使用碱性显影剂的常规方法相比,这会降低制造电子设备的成本和环境负荷。

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