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単結晶NbNを用いたサブミリ波帯SIS電磁波受信機の開発

机译:单晶NbN亚毫米波段SIS电磁波接收机的研制

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摘要

我々は単結晶NbNを用いたNbのギャップ周波数以上でのサブミリ波帯で動作するSISミキサーの研究,開発を行っている。 エギタキシヤル成長したNbN/MgO/NbN多層膜のDC特性評価を行い,多層化による特性劣化が無いことを示した。 この多層膜で作成したマイクロストリップ共振器とジョセフソン接合とを結合させ,共振時に観測される共振ステップからエビタキシヤルNbN薄膜の高周波特性評価を試みた。 結果として0.1-1.1 THzの周波数領域において。 表面抵抗2.6-88 mΩが得られ,Nbのギャップ周波数を超えるサブミリ波周波数帯において,優れた低損失特性を有することを示した。 また回路設計に必要な単結晶NbN/MgO/NbNトンネル接合の接合容量をフィスケステップから評価し,臨界電流密度J{sub}c=40-3900 A/cm{sup}2において,接合容量C{sub}s=70-120 fF/μm{sup}2を得た。 これらの結果を基に870 GHz帯準光学SISミキサーの試作,現在のところ795 GHzにおいて260 Kの低雑音動作に成功している。
机译:我们正在研究和开发一种SIS混频器,该混频器使用单晶NbN在Nb的间隙频率以上的亚毫米波段内工作。评价了外延生长的NbN / MgO / NbN多层膜的DC特性,发现没有由于多层引起的特性劣化。将由该多层膜制成的微带谐振器和约瑟夫森结耦合,并尝试根据共振期间观察到的共振步骤来评估Evitaxial NbN薄膜的高频特性。结果,在0.1-1.1THz的频率范围内。获得了2.6-88mΩ的表面电阻,并且显示出在超过Nb的间隙频率的亚毫米波频带中具有优异的低损耗特性。另外,电路设计所需的单晶NbN / MgO / NbN隧道结的结电容从Fiske步骤进行了评估,并且在临界电流密度J {sub} c = 40-3900 A / cm {sup} 2时的结电容C.我们获得{sub} s = 70-120 fF /μm{sup} 2。根据这些结果,870 GHz频段准光学SIS混频器的原型已成功在795 GHz的260 K下运行。

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