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単結晶NbNを用いたサブミリ波帯SIS電磁波受信機の開発

机译:用单晶NBN开发亚倍数波带SIS电磁波接收机

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摘要

我々は単結晶NbNを用いたNbのギャップ周波数以上でのサブミリ波帯で動作するSISミキサーの研究,開発を行っている。 エギタキシヤル成長したNbN/MgO/NbN多層膜のDC特性評価を行い,多層化による特性劣化が無いことを示した。 この多層膜で作成したマイクロストリップ共振器とジョセフソン接合とを結合させ,共振時に観測される共振ステップからエビタキシヤルNbN薄膜の高周波特性評価を試みた。 結果として0.1-1.1 THzの周波数領域において。 表面抵抗2.6-88 mΩが得られ,Nbのギャップ周波数を超えるサブミリ波周波数帯において,優れた低損失特性を有することを示した。 また回路設計に必要な単結晶NbN/MgO/NbNトンネル接合の接合容量をフィスケステップから評価し,臨界電流密度J{sub}c=40-3900 A/cm{sup}2において,接合容量C{sub}s=70-120 fF/μm{sup}2を得た。 これらの結果を基に870 GHz帯準光学SISミキサーの試作,現在のところ795 GHzにおいて260 Kの低雑音動作に成功している。
机译:我们正在研究和开发使用单晶NBN的NB间隙频率上方的Subsilimeter波段操作的SIS混合器。评价EGITAXIAL GROGIAL NBN / MGO / NBN多层DC表征,表明多层没有由于多层没有特征的降解。组合微带谐振器和由多层膜产生的Josephson结合,并且从共振时观察到的共振步骤尝试了外延NBN薄膜的高频特性评估。结果0.1-1.1 ZZ频率域。获得表面电阻2.6-88MΩ,表明它在超过Nb的间隙频率的亚毫米波频带中具有优异的低损耗特性。另外,从FISKY步骤评估电路设计所需的单晶NBN / MGO / NBN隧道结的键合容量,爪电流密度J {SUB} C = 40-3900A / cm {sup} 2。获得结电容C {Sub} S = 70-120 FF /μm{sup} 2。基于这些结果,目前为795GHz的870GHz基光学SIS混合器的试验制造成功了260 K的低噪声操作。

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