【24h】

AlGaN/GaN HFET電流コラプスの回復過程解析

机译:AlGaN / GaN HFET电流崩塌恢复工艺分析

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摘要

AlGaN/GaN HFETの電流コラプス機構解析を目的として、ストレス印加後の回復過程の解析を行なった。回復過程における光照射実験から伝導帯から1.9eV~2.6eVのトラップが負帯電していると考えられる。しかし、回復過程で観測された約270秒の時定数にはトンラップからの電子放出特有の温度依存性がほとんど無かった。ここで観測した270秒程度の回復はトラップからの電子の放出ではなく、バンド間トンネルによるホール生成などの別の機構による回復と考えられる。
机译:为了分析AlGaN / GaN HFET的电流崩塌机理,分析了应力施加后的恢复过程。从恢复过程中的光照射实验可以认为,1.9 eV至2.6 eV的陷阱从导带带负电。但是,在恢复过程中观察到的约270秒的时间常数几乎没有与Tonlap发射电子所特有的温度相关性。此处观察到的大约270秒的恢复被认为是通过另一种机制(例如,带间隧道形成空穴)的恢复,而不是来自陷阱的电子发射。

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