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【24h】

大面積接合を用いたNb/AlO_x/Nbジョセフソン接合トンネルバリアの欠陥評価

机译:大面积结对Nb / AlO_x / Nb Josephson结隧道势垒的缺陷评估

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摘要

超伝導集積回路のジョセフソン接合(JJ)として用いられるNb/AlO_x/Nb接合のほとんど全ての欠陥は、並はずれて大きな臨界電流を持つリークJJである。リークJJ発生原因を分析し、その主要な原因は接合膜下地パーティクルにあるとの仮説を立て、それを証明するための実験を行った。リークJJを効率よく検出するために本実験では20μm角の大面積JJを用いた。実験の結果、下地パーティクル数とリークJJ発生数によい一致が見られたことから、上記仮説は正しいと考えられる。このパーティクルの大きさ、密度はどちらも非常に小さく、通常の顕微鏡観察やプロセスTEGによる評価では発見は極めて困難である。このため、今まで見過ごされてきた欠陥原因である。今後、現状の数万JJより大きな数十万JJあるいは数百万JJ規模の超伝導集積回路を実現するためには、接合膜下地のパーティクル数を減少させることが重要であると考えられる。
机译:在超导集成电路中用作约瑟夫森结(JJ)的Nb / AlO_x / Nb结中的几乎所有缺陷都是具有非常大的临界电流的泄漏JJ。我们分析了泄漏的原因JJ,假设主要原因是粘结膜下的颗粒,并进行了实验证明。为了有效地检测泄漏JJ,在本实验中使用了20μm见方的大面积JJ。作为实验的结果,在背景粒子的数量与泄漏JJ发生的数量之间找到了很好的一致性,因此上述假设被认为是正确的。这些颗粒的尺寸和密度都非常小,并且通过普通的显微镜观察或通过工艺TEG进行评估很难找到它们。因此,这是迄今为止一直被忽视的缺陷的原因。将来,为了实现超大型集成电路,其规模要比目前的数万个JJ大数十万个JJ或数百万个JJ,减少键合膜下的粒子数量被认为很重要。

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