金属援用エッチングを用いて形成した多孔質シリコン薄膜の光学特性

摘要

結晶系シリコン（Si）太陽電池においてはSi表面の光反射率が変換効率を左右するため、Sはり屈折率の低い反射防止膜の形成とSi表面を凹凸にするテクスチャ化処理の組み合わせによる光反射率の低減が図られている．反射防止膜には一般に窒化膜が用いられるが、特定の波長でのみ反射防止効果が高い点とコストがかかる点が問題となる．そこで近年、フッ硝酸を用いたステインエッチングや電気化学的な陽極酸化により形成した多孔質Siを利用した反射防止膜の作製が行われている．この方法では多孔質Siの構造を変化させることで屈折率を制御できるため、広い波長範囲で反射防止効果を高くすることができる．我々は、金属触媒を修飾したSiをフッ化水素酸（HF）水溶液に浸漬する金属援用エッチングを用いて作製したマクロ多孔質Siがテクスチャ層として利用できることを報告した．現在、p-n接合に影響しない厚さで、かつ光反射防止効果の高い多孔質Si薄膜の作製を試みている．今回、この方法で作製したメソ～マクロサイズの微細孔をもつ多孔質Si薄膜の構造が光学特性に与える影響を調べた．