ハードディスクドライブ：TOF-SIMSの基礎とハードディスク分析への応用

摘要

近年の電子材料の開発は、表面解析と常に一体となって発展を遂げてきたといっても過言ではない。 工業材料表面の解析に様々な表面分析手法が開発、応用されてきているが、真の表面を分析する手法はまだない。一つは、表面が常に大気との接触界面であり、分析環境にさらされて改質してしまうことにある。 また、電子、X線、イオンなどのビーム照射やその反応により分析とともに表面が変化してしまう。しかし、検出される情報には材料からの情報が含まれているはずであり、それらをどのように解析していくかが表面分析者にとっての課題である。 また、トライボロジーの分析では常に表面の解析が必要であり、表面をいかに正確に解析し、キャラクタリゼーションしていくかが求められる。 TOF－SIMS法はハードディスク分野の研究開発に不可欠な手法の一つであるが、一つの分析手法のみから結論を導くことは困難であり、TOF－SIMSと他の分析手法との相互補完が必要となる。 より的確に分析を利用していくためには分析に対する正確な理解は不可欠である。 本稿では、TOF-SIMS分析の基礎とハードディスク分野での応用例を簡単に紹介する。