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机译:非平衡等离子体处理的干铝表面处理
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机译:通过等离子处理形成低电阻IGZO区并将其应用于自对准TFT-等离子处理期间基板偏置的影响
机译:通过等离子体处理形成低电阻IgZO区域,施用衬底偏压在等离子体处理期间的自对准TFT-效应
机译:通过等离子处理形成低电阻IGZO区域并将其应用于自对准TFT:等离子处理期间基板偏压的影响〜
机译:氩铯非平衡等离子体圆盘型MHD发生器的特性研究
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