ケンタツキー大学、ダイムラー社など、グラフエンを超える新二次え材料を発見、ケイ素ーホウ素ー窒素の系で安定性が高く、ツリコンプロセス活用可能

摘要

米ケンタッキー大学、独ダイムラー社、ギルヤ電子構造レザー研究所などの研究グループが、グラフェンを上回る新規な二次原材料を開発した。これは、ケイ素－ホウ素岬窒素元素から構成された材料系で、1000℃を超える温度まで安定性が極めて高いことが確認されている。