超音速フリージェットPVDによる多結晶Si膜の形成と膜組織観察

摘要

TFTや薄暮太陽電池など高度情報化社会を支えるシリコン（Si）は，アモルファスシリコン（a－Si）膜がおもに使用されているが，より高電子移動度を有するデバイスを形成するためにa－Si膜から多結晶Si膜への転換が必要不可欠と指摘されている。 多結晶Si膜を形成される技術に求められるのは，成膜速度が迷いこと，緻密な膜が形成できること，多様な材質に成膜できること，基板へのダメージを与えないよう低温で成膜できること，などが挙げられる。本研究では超音速フリージェットPVDにより，ガラス基板上にSi膜を形成させ，膜の組織観察を行った。