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机译:离子混合和气相沉积技术对TiN薄膜择优取向与针孔缺陷的相关性
Thin film; Titanium nitride (TiN); Jon mixing and vapor deposition (IVD) technique; Preferred orientation; Pinhole defect; Critical passivation current density (CPCD) technique;
机译:离子混合和气相沉积技术锡膜优选取向与针孔缺损的相关性
机译:通过离子混合和气相沉积技术制备锡膜及其针孔缺陷评价
机译:离子混合和气相沉积技术制备TiN薄膜及其针孔缺陷评估
机译:优选取向对离子混合和气相沉积制备的锡膜针孔缺陷的影响
机译:气相沉积聚合制备共轭聚合物薄膜分子取向的控制
机译:使用He / H2 / CH4 / N2气体混合物通过微波等离子体化学气相沉积法合成超光滑纳米结构金刚石膜
机译:通过化学气相沉积沉积的TiO2薄膜中优选取向和相变的X射线衍射面积映射
机译:高温超导薄膜金属有机化学气相沉积中混合有机金属化合物的汽化模型