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半導体材料中の超微量金属不純物定量のための化学前処理法

机译:化学预处理方法定量半导体材料中超痕量金属杂质

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摘要

先端半導体素子の高性能化のためには,シリコンウエハーをはじめとして,金属やセラミックス,有機物など多岐にわたる材料の高純度化が不可欠であり,そのためのppt~ppbレベルの超微量分析法の開発が急務である。これらの要求にこたえる手段として,化学前処理法では,試薬、容器や環境などからの汚染低減やマトリックス分離が試みられている。 本稿では,気相分解法やイオン交換法など,現在活用されている超微量金属不純物定量のための化学前処理法を紹介し,操作や適応範囲について,具体例を用いて解説する。
机译:为了提高先进的半导体元件的性能,必不可少的是提纯各种材料,例如硅片,金属,陶瓷和有机物质,并且为此目的开发了从ppt到ppb级的超痕量分析方法。迫切需要。作为满足这些需求的手段,化学预处理方法已经尝试减少试剂,容器,环境等的污染,并分离基质。在本文中,我们将介绍目前用于量化超痕量金属杂质的化学预处理方法,例如气相分解法和离子交换法,并通过具体实例说明其操作和适用范围。

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