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机译:使用XeF2作为反应气体的同步辐射辐照法对聚二甲基硅氧烷的蚀刻
PDMS; synchrotron radiation etching; XeF2; anisotropy;
机译:使用XeF2作为反应气体的同步辐射辐照法对聚二甲基硅氧烷的蚀刻
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机译:有和没有XeF2气体辅助的激光辅助聚焦He +离子束诱导刻蚀
机译:用于MEMS处理的晶圆级XeF2气相各向同性刻蚀的表征
机译:有机材料等离子体刻蚀的刻蚀轮廓控制与表面反应研究
机译:使用XeF2作为反应气体的同步辐射辐照法对聚二甲基硅氧烷的蚀刻
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