机译:具有氟化堆叠栅电介质和薄势垒层的高性能增强模式AlGaN / GaN MOS-HEMT
AlGaN/GaN; enhancement-mode (E-mode); stack gate dielectrics; atomic layer deposition (ALD);
机译:具有氟化堆叠栅电介质和薄势垒层的高性能增强模式AlGaN / GaN MOS-HEMT
机译:使用堆叠的$ hbox {Al} _ {2} hbox {O} _ {3} / hbox {Ga} _ {2} hbox {O} _ {{3} /)增强模式GaN MOS-HEMT中的低频噪声hbox {Gd} _ {2} hbox {O} _ {3} $门电介质
机译:通过使用氟化的$ hbox {Al} _ {2} hbox {O} _ {3} $作为栅极电介质来制造增强模式AlGaN / GaN MISHEMT
机译:具有超薄势垒和稀释KOH钝化的硅上增强模式AlGaN / GaN MOS-HEMT
机译:增强型AlGaN / GaN晶体管的制造技术和器件仿真。
机译:面向增强模式特性的具有双AlGaN势垒设计的嵌入式栅AlGaN / GaN MIS-HEMT研究
机译:具有薄AlGaN势垒层的AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管的Al2O3绝缘栅结构