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机译:一种高能电子束光刻中抑制绝缘基板上带电效应的方法
charging effect; pattern distortions; electron beam lithography;
机译:一种高能电子束光刻中抑制绝缘基板上带电效应的方法
机译:通过临界能量电子束光刻技术在绝缘基板上进行纳米级图案化
机译:电子束光刻中绝缘抗蚀剂膜的非充电曝光条件研究
机译:PMMA电子束光刻电荷耗散层对透明绝缘基板的剂量敏感性的比较诸如GaN的透明绝缘基板
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:利用双能技术改进锥形束CT电子密度测量的一种方法
机译:电子束光刻技术用于实现具有大拓扑电荷(L =1000ħ)的电子束涡旋
机译:使用电子束光刻在非平坦基板上的衍射光学元件