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机译:通过等离子体增强化学气相沉积法生长的硼碳合金的化学和形态学性质
Thin-films; Heterojunction diodes; Carbide; Fabrication;
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法生长的硼碳合金的化学和形态学性质
机译:等离子体增强的化学气相沉积和热丝等离子体增强的化学气相沉积转移石墨烯使用镍催化剂
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法从C2H2 + SiH4混合物中生长的宽带隙氢化非晶硅碳合金薄膜的热改性
机译:低压化学气相沉积在Si上生长的SiGe合金层的结构形态
机译:通过等离子体增强的金属有机化学气相沉积法制得的锶钛氧化物和钡(1-x)锶钛氧化物外延薄膜。
机译:使用等离子增强化学气相沉积法在SiO2上生长的大面积纳米晶石墨膜(NCG)上的数据集
机译:脉冲等离子体增强化学气相沉积法生长的金催化的SiNWs的结构和光学性质
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积(远程pECVD)生长的非晶硅合金中缺陷产生的基础研究。年度分包合同报告,1990年9月1日 - 1991年8月31日