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Diffusion of ~6Li in Tantalum and Tungsten Studied by the Neutron Depth Profiling Technique

机译:中子深度分析技术研究〜6Li在钽和钨中的扩散

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摘要

Diffusion of ~6Li in the refractory metals Ta and W has been studied using the nondestructive neutron depth profiling technique. The preliminary results point out the complex behavior of 6Li atoms in W and Ta. The experiment showed that the Fickian diffusion is affected by the presence of traps and radiation defects in the sample surface layer. Further experiments and computer simulations of the diffusion process are in progress.
机译:使用非破坏性中子深度轮廓分析技术研究了〜6Li在难熔金属Ta和W中的扩散。初步结果指出了6Li原子在W和Ta中的复杂行为。实验表明,Fickian扩散受样品表面层中陷阱和辐射缺陷的存在的影响。扩散过程的进一步实验和计算机模拟正在进行中。

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