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【24h】

Determination par diffraction des rayons X de la texture et des contraintes dans des revetements de chrome dope au carbone realises par pulverisation cathodique magnetron

机译:X射线衍射法测定阴极磁控溅射碳掺杂铬涂层的织构和应力

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摘要

Vapor deposited chromium doped carbon tin films are highly fiber textured and their major orientation depends on the growth parameters and in particular, on the substrate bias voltage. The strong texture does not allow to apply the well known sin_2Ψ -method stress determination technique using X-ray. Two methods will be used and compared: the Ideal Directions Method and the Single Crystal Stress Analysis. The growth Parameters effect will be studied with different X-ray techniques. The fiber texture presents an inclination in connection with the columnar morphology and the substrate position according to the long target axis. The growth parameters such as the substrate bias voltage and the target power have a strong influence on the residual stress distribution.
机译:气相沉积的掺杂铬的碳锡膜具有高度的纤维织构,其主要取向取决于生长参数,尤其取决于基底偏置电压。强烈的纹理不允许应用使用X射线的众所周知的sin_2Ψ方法应力确定技术。将使用和比较两种方法:理想方向方法和单晶应力分析。将使用不同的X射线技术研究“生长参数”效应。纤维织构呈现出与柱状形态和根据长目标轴的基板位置有关的倾斜。诸如衬底偏置电压和目标功率之类的生长参数对残余应力分布有很大影响。

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