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旭化成イーマテリアルズArF露光対応ペリクルを上市

机译:推出旭化成电子材料ArF曝光兼容薄膜

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摘要

旭化成イーマテリアルズはこのほど,半導体用途向けのフッ化アルゴン(ArF)露光対応ペリクルを上市するとともに,生産技術の革新により半導体用途ペリクルの生産能力を倍増させ,今後の半導体製造プロセスのさらなる微細化に伴う最先端ペリクルの需要に十分対応可能な供給体制を整えた。
机译:旭化成电子材料有限公司最近推出了一种与氟化氩(ArF)兼容的防护膜,用于半导体应用,并通过生产技术的创新使该防护膜的产能翻了一番,从而进一步完善了半导体制造工艺。我们建立了可以完全满足尖端防护膜需求的供应系统。

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