机译:从新合成的单源前驱体气溶胶辅助化学气相沉积硫化铜纳米结构薄膜
Copper complex; thin film; aerosol-assisted chemical vapor deposition; scanning electron microscopy; powder X-ray diffraction;
机译:从新合成的单源前驱体气溶胶辅助化学气相沉积硫化铜纳米结构薄膜
机译:有机锡二硫代氨基甲酸酯:通过气溶胶辅助化学气相沉积(AACVD)用于硫化锡薄膜的单源前体
机译:N-(二烷基氨基甲硫酰基)-4-硝基苯甲酰胺作为单源前体的镍(II)配合物,用于通过化学气相沉积法沉积纳米结构的硫化镍薄膜
机译:硫化铁(FES {Sub} 2)薄膜通过气溶胶辅助化学气相沉积(AACVD)单源前体
机译:金属有机和气溶胶辅助化学气相沉积。硫化亚铜,二硫化钼/氧化钛和金属银薄膜的基于二硫代氨基甲酸酯和膦基硼酸酯配体的前体的开发和应用
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:杂环二硫代氨基甲酸 - 铁(III)配合物:用于硫化铁薄膜的气溶胶辅助化学气相沉积(aaCVD)的单源前体
机译:使用三元单源前体通过气溶胶辅助化学气相沉积沉积CuIns2薄膜