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机译:直接写入,无抵抗的硬掩模,用于钻石的快速纳米级图案化
Diamond; Lithography; Hard mask; Focused ion beam; Dry etching; Plasma etching; Nanoindentation;
机译:直接写入,无抵抗的硬掩模,用于钻石的快速纳米级图案化
机译:超薄低k介电层在硬掩模图案化过程中的纳米屈曲
机译:使用含硅的热塑性抗蚀剂(SiPol)作为硬掩模在传感器应用中形成类金刚石碳膜的图案
机译:使用新型多功能图案化掩模和“无抗抵抗”修剪过程产生子30nm多晶硅栅极
机译:用于纳米加工和直接写入图案的有限流量场注入静电喷涂的研究:应用于染料敏化太阳能电池。
机译:通过聚焦电子束感应沉积生成直写三维纳米结构的图案
机译:直接写入,无抵抗的硬掩模,用于钻石的快速纳米级图案化