机译:热处理导致X射线和同步加速器辐射改变SiO2 / Cu / TiN薄膜内部应力的变化
multi layers film; residual stress; crystal structure; surface morphology; X-ray diffraction; synchrotron radiation; RESIDUAL-STRESS; TIN FILMS;
机译:热处理导致X射线和同步加速器辐射改变SiO2 / Cu / TiN薄膜内部应力的变化
机译:用同步加速器辐射评估TiN薄膜的内部应力
机译:用同步辐射评估单层,双层和多层TiN和TiAlN薄膜的内部应力
机译:使用同步加速器X射线在热循环过程中原位测量铜薄膜中的内部应力
机译:X射线吸收精细结构和同步辐射总X射线散射研究非晶铟锌氧薄膜的局部键合环境。
机译:透射模式下同步加速器X射线散射对非晶有机薄膜的成对分布函数
机译:Cr1-xAlxN薄膜在高温下的实验和预测力学性能,结合了原位同步加速器辐射X射线衍射和计算模型
机译:用于热电器件的超晶格siO2 / siO2 + Ge多层薄膜。