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机译:化学机械抛光中垫划痕的建模和缓解
Defect; Polishing; Semiconductor;
机译:化学机械抛光中垫划痕的建模和缓解
机译:在化学机械抛光中因抛光垫粗糙而刮擦
机译:用于化学机械抛光的抛光垫结构和抛光垫调节的随机模型
机译:通过垫在化学机械抛光中划伤图案化复合表面
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:KDP油包水型微乳液用于KDP晶体的超精密化学机械抛光
机译:化学机械抛光中的垫片划痕:机械和摩擦学性能的影响