机译:等离子体增强化学气相沉积法制得的碳氮化物膜的磁性〜1
A.Doped carbons; Pyrolytic carbon; B.Chemical vapor deposition; Plasma deposition; D.Magnetic properties;
机译:等离子体增强化学气相沉积法制得的碳氮化物膜的磁性〜1
机译:用三甲胺硼烷进行等离子体化学气相沉积法生长的碳氮化硼薄膜的化学组成
机译:用氨基硅烷和硅氮烷前体远程氢等离子体化学气相沉积硬硅碳氮化型薄膜涂层。 2:沉积薄膜的物理,光学和机械性能
机译:等离子增强化学气相沉积法制备共掺杂TiO2薄膜的结构和铁磁性能
机译:通过聚合物源化学气相沉积合成的非晶碳化硅和碳氮化硅薄膜的表征。机械结构和金属界面性能
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频和微波等离子体增强化学气相沉积法沉积碳氮化硼(BCN)薄膜的表征