DUNNSCHICHTTECHNOLOGIE: Puls-Laser-Deposition (PLD)

摘要

Bei der PLD (Pulsed Laser Deposition) werden die Moglichkeiten der Lasertechnik genutzt, Energie als Lichtstrahlung auf kurze Zeitraume zu konzentrieren und die Strahlung in kleinen Bereichen zu fokussieren (Abb. 1). Damit lassen sich extrem hohe Leistungsdichten bis uber 10~(20) W/cm~2 erreichen. Fur die PLD werden meist Leistungsdichten zwischen 10~7 und 10~(10) W/cm~2 bei Pulszeiten zwischen 1 ns und 100 ns, d. h. Energiedichten um 10 J/cm~2, genutzt. (Zum Vergleich: Leistungsdichten an der Targetoberflache beim Elektronenstrahlverdampfen ca. 10~4 W/cm~2, beim Magnet- ron-Sputten ca. 30 W/cm~2). Bei hoheren Intensitaten steigt der ohnehin schon betrachtliche apparative und energetische Aufwand stark an. Bei geringeren Intensitaten handelt es sich um einen normalen Bedampfungsprozess (wie beim Elektronenstrahlbedampfen) ohne die fur die PLD im engeren Sinne charakteris?tische Erzeugung eines hochenergetischen Beschichtungsplasmas.