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Pulvermetallurgisch hergestellte Sputtertargets fur die CigS dunnschichtphotovoltaik

机译:粉末冶金制造的用于CigS薄膜光伏电池的溅射靶

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摘要

Die Schichtabscheidung uber Magnetronsputtern ist Bestandteil wichtiger Prozessschritte bei der Herstellung von CIGS-Dunnschicht Photovoltaikmodulen. Diese basieren auf dem Halbleiter Cu(In, Ga)Se_2 und erfordern einen Ruckkontakt aus Molybdan. Herstellung und Anwendung von Sputtertargets aus Molybdan, MoNa und CuGa werden diskutiert. Die Targetherstellung uber pulvermetallurgische Fertigungsverfahren wird am Beispiel von Molybdan eingefuhrt. Der Herstellungsweg uber Pressen-Sintern-Umformen resultiert in hochreinem Material mit voller Dichte. Durch Zugabe einer Natriumverbindung wurden MoNa Targets entwickelt, wodurch die Dotierung des CIGS-Absorbers mit geringen Mengen Natrium erreicht werden kann. Bei CuGa-Targets bietet die pulvermetallurgische Fertigung gegenuber der Schmelzmetallurgie Vorteile: Eine feinere und gleichmassigere Mikrostruktur des Targets resultiert in einer homogenen lateralen Zusammensetzung der CuGa-Schichten.
机译:通过磁控溅射沉积层是制造CIGS薄膜光伏模块中重要工艺步骤的一部分。这些基于半导体Cu(In,Ga)Se_2,并且需要由钼制成的背接触。讨论了由钼,MoNa和CuGa制成的溅射靶材的生产和应用。以钼为例,介绍了使用粉末冶金制造工艺生产靶材的方法。通过压制-烧结成型的制造路线可得到具有全密度的高纯度材料。通过添加钠化合物,开发了MoNa靶,这意味着CIGS吸收剂可以掺杂少量钠。就CuGa靶而言,粉末冶金生产比熔融冶金更具优势:靶的更精细和更均匀的微观结构可导致CuGa层的横向组成均匀。

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