机译:X射线光电子能谱工艺优化,用于痕量污染元素的表征,用于极紫外抗蚀剂脱气研究
X-ray photoelectron; spectroscopy process; characterization;
机译:X射线光电子能谱工艺优化,用于痕量污染元素的表征,用于极紫外抗蚀剂脱气研究
机译:通过角分辨X射线光电子能谱,中能离子散射和掠入射超紫外反射法对HfO2高k堆中超薄中间层进行交叉表征
机译:结合X射线光电子能谱/紫外光电子能谱/场发射能谱表征金刚石的电子发射机理
机译:通过X射线光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)研究EUV辐照对聚苯乙烯衍生物的影响
机译:极高的紫外线抗蚀剂除气作用及其对附近光学器件的影响。
机译:X射线光电子能谱对痕量表面污染物的定量分析第一部分:检测极限附近的统计不确定性
机译:紫外光电子谱,X射线光电子体光谱和液体溶液X射线吸收光谱测量的瑞士光源的新终止
机译:Ni(100)上的硫吸附及其对CO化学吸附的影响。 II。 Ups(紫外光电子能谱)和Xps(X射线光电子能谱)结果