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机译:氮气流量对直流磁控溅射制备TiAlN薄膜生长的影响
TiAlN; Thin film; Reactive sputtering; Deposition rate; Microstructure; Crystal structure; Hardness; Resistivity;
机译:氮气流量对直流磁控溅射制备TiAlN薄膜生长的影响
机译:Al含量,衬底温度和氮气流速对反应磁控溅射制备的纳米结构TiAlN薄膜光学带隙和光学特性的影响
机译:氮气流量对脉冲直流磁控溅射制备Zr-N薄膜的微观结构和纳米力学性能的影响
机译:N_2流速对反应磁控凝固型纳米结构TiAln薄膜性能的影响
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:反应直流磁控溅射在高Ar流量下制备的氮化锆薄膜中的颜色变化