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机译:反应性磁控溅射的原子氮源
Atomic nitrogen; Micro-wave plasma; Mass spectrometry; Reactive sputtering; Zirconium nitride films; Plasma; Discharges; Afterglow; N-2;
机译:反应性磁控溅射的原子氮源
机译:通过反应高功率脉冲磁控溅射溅射MOS_X薄膜的氮掺杂
机译:溅射参数和氮对直流反应磁控溅射沉积在钢基底上的氮化铬薄膜微观结构的影响
机译:反应性磁控溅射的原子氮源的光学和质谱表征之间的相关性
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:原子氮/氢的作用在GaN薄膜生长中通过用双重等离子体来源化学辅助溅射
机译:不同氮流量比对反应磁控溅射制备(Hf:N)-DLC薄膜光学性质的影响