磁控溅射铝膜的表面形貌及粗糙度的原子力显微镜观测

摘要

采用直流磁控溅射方法在(111)取向的单晶Si片上沉积单层Al膜，并将样品分为两组退火，第一组样品分别在200、300和400益退火10min；第二组样品在300益分别退火5、10和15min。原子力显微镜观测退火膜的表面形貌及粗糙度表明，随着退火温度的升高或退火时间的增加，表面更加平整，粗糙度明显减小，膜的致密性得到改善。原子的表面扩散是造成薄膜表面趋于平滑的主要原因。