...
机译:通过基于等离子体的离子注入注入的材料中的氮分布
机译:通过基于等离子体的离子注入注入的材料中的氮分布
机译:基于金属DC等离子体的离子注入中具有三维拓扑结构的材料的TiN涂层和离子注入
机译:等离子体离子注入制得的氮离子注入层的掠入射X射线散射和衍射研究
机译:等离子体离子注入在Ti6A14V基体上氮掺杂介孔TiO2层的结构和可见光催化活性
机译:使用二次离子质谱法对半导体材料中注入物种的轮廓进行实验研究。
机译:乙烯基聚醚和聚乙烯硅氧烷的尺寸精度直接植入印象技术的印模材料对于多种牙科植入物
机译:基于等离子体的离子植入:一种有价值的技术,用于制定创新材料和纳米结构薄膜
机译:低能量(100至1500 EV)的范围剖面注入exp 3 He和exp 4 He in Tungsten。 II。分析与讨论。材料科学中心第4108号报告