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机译:通过从DMDMS / O-2前驱体进行等离子体增强化学气相沉积制备的低k SiOC(-H)薄膜的等离子体特性
SiOC(-H) films; Low-k; PECVD; DMDMS; Plasma diagnostics; XPS;
机译:通过从DMDMS / O-2前驱体进行等离子体增强化学气相沉积制备的低k SiOC(-H)薄膜的等离子体特性
机译:用二甲基二甲氧基硅烷/ O-2前体使用等离子体增强的化学气相沉积,纳米孔结构的低介电常数SiOC(-H)薄膜的导电。
机译:通过等离子体增强的四(三甲基甲硅烷基甲硅烷基)硅烷前体制备柔性低k电介质SiCOH薄膜的柔性低k电介质SiCOH薄膜
机译:前体流速对等离子体增强化学气相沉积法沉积低k SiOC(H)薄膜特性的影响
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)沉积的超低k SiOC(H)膜的表征
机译:用电子束生成等离子体的等离子体增强化学气相沉积siOx薄膜