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Grossenvergleich von Suszeptibilitatsartefakten verursacht durch Mikrochips unterschiedlicher Geometrie am 1,5-Tesla-MagnetresonanztomographenPhantompilotstudie unter Berücksichtigung der ASTM-Standardtestmethode F2119-07

机译:考虑到ASTM标准测试方法F2119-07,对1.5特斯拉磁共振断层扫描仪幻像试验研究中由不同几何形状的微芯片引起的磁化伪影进行了较大的比较

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摘要

Ferromagnetisches Material als Bestandteil eines Mikrochips zur Tierkennzeichnung verursacht in der Magnetresonanztomographie lokale Signalanhebungen, Bildausloschungen und -Verzerrungen (Suszeptibilitatsartefakte). Ziel dieser Studie war, den Einfluss unterschiedlicher Mikrochipgeometrie auf die Grosse der Suszeptibilitatsartefakt standardisiert zu prüfen. Material und Methode: Mikrochips der Marken Da-tamarsr, Euro-I.D.r und Planet-IDr (n = 15) wurden nacheinander in ein Messphantom eingebracht und unter Berücksichtigung der ASTM-Stan-dardtestmethode F2119-07 (Spinecho [TR 500 ms, ТЕ 20 ms], Gradientenecho [TR 300 ms, ТЕ 15 ms, Kippwinkel 30°], Schichtdicke 3 mm, Field of View 250 x 250 mm, Akquisitionsmatrix 256 x 256 Pixel, Bandbreite 32kHz) bei 1,5 Tesla untersucht. Die Bildakquisition erfolgte jeweils mit einer Mikrochiplage in x- und z-Richtung sowie einer Phasenkodierung in y- und z-Richtung. Die Artefaktgrosse wurde mittels a) Messung laut Testmethode F2119-07 unter Zuhilfenahme eines homogenen Punktoperators, b) Signalintensitatsmessung nach Matsuura et al. und c) Zahlen der Pixel im Artefakt nach Port und Pomper ermittelt. Ergebnisse: Für die drei Mikrochips ergaben sich bei allen drei Messmethoden signifikante Unterschiede hinsichtlich der Artefaktgrosse (Wilcoxon p = 0,032). Bei einer Zunahme des Mikrochipvolumens um das Zwei- bis Dreifache vergrosserte sich das Artefakt um bis zu 76%, je nach Sequenztechnik, Phasenkodierung und Chiplage zu B0. Schlussfolgerungen und klinische Relevanz: Je kleiner die Chipgeometrie, desto geringer das Suszeptibilitatsartefakt. Spinechos (SE) verursachen kleinere Artefakte als Gradientenechos (GE). Die nderung der Phasenkodierung hat bei dreidimensionaler Messung des Artefakts bei GE-Sequenzen eine geringere Auswirkung auf die Artefaktgrosse als bei SE-Se-quenzen. Allerdings kann dadurch bei Letzteren die Artefaktform und -rich-tung beeinflusst werden. Die Grosse des durch den Mikrochip verursachten Artefakts spielt für die Bildauswertungder MRT-Untersuchung im Bereich Kopf, Hals und Schulter eine wesentliche klinische Rolle.
机译:作为用于动物识别的微芯片的组成部分的铁磁材料导致磁共振成像中局部信号增加,图像抵消和失真(磁化伪影)。这项研究的目的是以标准化的方式测试不同的微芯片几何形状对磁化率伪影的大小的影响。材料和方法:将Da-tamarsr,Euro-IDr和Planet-IDr(n = 15)品牌的微芯片一个接一个地放在测量体模中,并考虑到ASTM标准测试方法F2119-07(自旋回波[TR 500 ms,ТЕ20毫秒],梯度回波[TR 300毫秒,ТЕ15毫秒,倾斜角30°],切片厚度3毫米,视野250 x 250毫米,采集矩阵256 x 256像素,带宽32 kHz)在1.5特斯拉时。使用微芯片在x和z方向上进行图像采集,并在y和z方向上进行相位编码。伪影的大小是通过以下方法确定的:a)根据测试方法F2119-07在均质点算子的帮助下进行测量; b)根据Matsuura等人的信号强度测量。 c)根据端口和庞珀确定伪像中的像素数目。结果:对于这三种微芯片,所有三种测量方法在伪影大小方面均表现出显着差异(Wilcoxon p = 0.032)。当微芯片体积增加2到3倍时,伪影最多增加76%,具体取决于序列技术,相位编码和芯片位置B0。结论与临床意义:切屑几何形状越小,敏感性伪影越低。自旋回波(SE)产生的伪像比梯度回波(GE)小。在GE序列中的伪像的三维测量中,相位编码的变化对伪像的尺寸的影响小于SE序列中伪像的影响。但是,在后者中,伪影的形状和方向可能会受到影响。由微芯片引起的伪影的大小在头部,颈部和肩部区域的MRT检查的图像评估中起着至关重要的临床作用。

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