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机译:富含HNO3的HF / HNO3混合物中硅腐蚀机理的研究
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机译:HF / HNO3混合物中硅的局部湿法刻蚀特性
机译:扫描基于探针的纳米刻度:通过HF / HNO3混合物中的独特各向异性蚀刻在硅表面上制造的非破坏性结构
机译:NH4F对HF / HNO3 / H2O体系中硅刻蚀的影响
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:从硅工程到多孔硅和硅金属辅助化学刻蚀的纳米线:Ag的大小和作用电子清除率对形貌控制及机理的影响
机译:氮化硅氢氟碳等离子体蚀刻中的氢气效应:CF +,CF2 +,CHF2 +和CH2F +离子的梁研究
机译:HNO3和HF混合物中钍的溶出度