机译:具有热机械致动器的可变形反射镜,用于极端紫外光刻:设计,实现和验证
Adaptive optics; Optical lithography; Deformable mirrors; Mirror heating;
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机译:工业极端紫外光刻的多镜光学设计
机译:用于极紫外光刻的三非球面镜投影相机的照明系统设计
机译:通过部分蚀刻到EUV多层镜中制造极紫外光刻的相移掩模的设计和方法
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:具有执行器两层布局的电磁流体可变形镜
机译:多镜自适应光学器件,用于控制极端紫外光刻中的热像差
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。