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机译:使用LaB_6目标在大功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和突发HiPIMS中观察多种电荷状态和高离子能量
LaB_6; HiPIMS; sputtering; plasma composition; ion charge state; ion energy;
机译:使用LaB_6目标在大功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和突发HiPIMS中观察多种电荷状态和高离子能量
机译:石墨大功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)产生等离子体的参数研究
机译:大功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)铜表面对大肠杆菌的灭活
机译:石墨高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)产生的等离子体离子组成的研究
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:通过高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)从复合靶材生长的ZrB2薄膜