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机译:化学放大抗蚀剂和非化学放大抗蚀剂在极紫外下的动态吸收系数
机译:扩展的物理抗蚀剂开发模型,用于利用化学噪声显影抗蚀剂
机译:用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂的线宽粗糙度的抵抗厚度依赖性
机译:GaAs晶片的表面化学性质以及在抗蚀剂加工过程中与化学放大抗蚀剂的反应
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:关于急性缺血性卒中(RESIST)患者远程缺血性调节的多中心随机对照试验-原理和研究设计
机译:193nm顶表面成像过程的非化学放大抗蚀剂和化学放大抗蚀剂的光刻性能。