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反射波面補正のためにイオンミリングした軟Ⅹ線多層膜鏡の評価

机译:离子铣削软X射线多层镜对反射波前校正的评估

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摘要

波面補正のためにイオンミリングしたMo/Si多層膜鏡のrn表面粗さと軟Ⅹ線反射率を評価した.10mm×10mmの開rn口を有する領域指定テンプレートを多層膜前面に配置してイrnオンビーム加速電圧500Vでミリングした場合,ミリング領rn域中心部で粗さが小さく,外周部ほど粗くなる傾向がある.
机译:我们评估了离子铣削的Mo / Si多层反射镜用于波前校正的rn表面粗糙度和软X射线反射率。当将具有10 mm x 10 mm开口的区域指定模板放置在多层膜的前表面上,并以500 V的光束加速电压进行铣削时,粗糙度往往在铣削区域的rn区域的中心变小,而在外围则变得粗糙。在那儿。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2010年第5期|P.368-370|共3页
  • 作者单位

    東北大学多元物質科学研究所先端計測開発センター軟Ⅹ線顕微計測研究部(〒980-8577仙台市青葉区片平2-1-1);

    東北大学多元物質科学研究所先端計測開発センター軟Ⅹ線顕微計測研究部(〒980-8577仙台市青葉区片平2-1-1);

    東北大学多元物質科学研究所先端計測開発センター軟Ⅹ線顕微計測研究部(〒980-8577仙台市青葉区片平2-1-1);

    東北大学多元物質科学研究所先端計測開発センター軟Ⅹ線顕微計測研究部(〒980-8577仙台市青葉区片平2-1-1);

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