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磁気トンネル接合の成膜技術の進展

机译:磁性隧道结的成膜技术进展

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摘要

磁気トンネル接合(Magnetic Tunnel Junction=MTJ)は室温において巨大な磁気抵抗効果を示すことから),ハードディスクドライブ(HDD)に搭載されている磁気へッドや磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)に採用されている.さらに,高感度磁気センサーやマイクロ波発振素子,スピントランジスターなどへの応用も検討されており,MTJを搭載した電子デバイスはますます増えるであろう.%Magnetic tunnel junctions (MTJs) have already been used for electronics devices such as magnetic read-heads of hard-disk drives and magnetic random memories. As the performance of such devices advances year by year, the requirements for the MTJs are getting strict. In order to fulfill such strict requirements, stack structure and deposition process of the MTJs have also been improved. This article focuses on the magnetic read-heads and the magnetic random access memories, and describes the technical trend of MTJs and progress in sputtering deposition technology.
机译:磁性隧道结(MTJ)在室温下具有巨大的磁阻效应,用于安装在硬盘驱动器(HDD)中的磁头和磁性随机存取存储器(MRAM)。此外,也正在考虑将其应用于高灵敏度磁传感器,微波振荡设备,自旋晶体管等,并且配备MTJ的电子设备的数量将继续增加。磁性隧道结(MTJ)的百分比已经用于硬盘驱动器的磁读取头和磁随机存储器等电子设备,随着这些设备的性能逐年提高,对MTJ的要求也越来越严格,为了满足这种严格的要求,必须采用堆叠结构本文重点研究了磁读取头和磁随机存取存储器,并描述了MTJ的技术发展趋势和溅射沉积技术的发展。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2014年第3期|91-95|共5页
  • 作者

    恒川孝二;

  • 作者单位

    キャノンァネルバ株式会社(〒215-8550 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1);

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  • 正文语种 jpn
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