机译:氢射频等离子体形成的碳钨共沉积层中的氢保留
Department of Advanced Energy Engineering Science, Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences Kyushu University, Hakozaki 6-10-1, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, Japan;
co-deposition; carbon; tungsten; hydrogen retention; RF plasma;
机译:通过氢等离子体溅射形成的碳钨共沉积层中氢的掺入
机译:在D_2 / Ar等离子体中通过RF磁控溅射制备的碳钨共沉积层的特性
机译:氧对氢射频等离子体形成的W沉积层中氢保留的影响
机译:等离子体加氢的新型硅表面清洁技术及其在选择性CVD-W覆层形成中的应用
机译:调查与融合有关的等离子体物质相互作用:分析重离子损伤钨中的氢同位素保留。
机译:在聚酰胺6上的血浆支持沉积非晶氢化碳(A-C:H):在层生长期间确定层间完成和脱氢效应
机译:高密度等离子体暴露下形成的铍共沉积层的微观结构和氘的保留