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机译:用Mueller矩阵分析带纹理的薄膜和周期性光栅结构:产生角度分辨SE旋光仪的新挑战
SERMA Technologies LETI M1NATEC, F38054 Grenoble, France;
LP1CM, Ecole Poly technique, F91128 Palaiseau, France;
LP1CM, Ecole Poly technique, F91128 Palaiseau, France;
LP1CM, Ecole Poly technique, F91128 Palaiseau, France;
CEA LETI M1NATEC, F38054 Grenoble, France;
LP1CM, Ecole Poly technique, F91128 Palaiseau, France;
polarimetry; mueller matrix; surface analysis; scatterometry; periodic structures; gratings; photonics tructure; angle-resolved polarimeter; ellipsometer; instrumentation;
机译:纳米技术中表面粗糙度和织构化薄膜以及周期性结构散射的光的偏振法:仪器和建模的新挑战
机译:使用角度分辨Mueller矩阵旋光仪在纹理化晶体硅基板上进行散射光测量
机译:具有螺旋周期结构的介质层的穆勒矩阵:周期系统中相干辐射的吸收
机译:角度解析的Mueller矩阵的Zernike表示法,用于纳米尺度结构的尺寸分析
机译:周期性不对称纹理表面上胶片凝结的分析与数值研究
机译:严格耦合波分析法分析周期性和随机织构的硅薄膜太阳能电池
机译:由表面粗糙度和纹理薄膜和纳米技术的周期性结构散射的光偏振 - 在仪器和建模中的新挑战