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机译:AlN,GaN和InN(001)表面电子能带结构
CSIC, Inst Ciencia Mat, Madrid 28049, Spain;
Univ Auton Estado Morelos, Fac Ciencias, Cuernavaca, Morelos, Mexico;
surfaces; electron states; TIGHT-BINDING CALCULATION; GALLIUM NITRIDE; INDIUM NITRIDE; INN; GROWTH; SEMICONDUCTORS; ABSORPTION; ENERGY;
机译:对AlN / GaN,InN / GaN和InN / AlN超晶格的电子结构的有序影响
机译:GaN,AlN和BN(001)理想表面的电子能带结构的紧密束缚计算
机译:(BN)(1)/(INN)(1),(ALN)(1)/(1)(1)和(GaN)(1)/(Inn)(1)(001)超晶格:光电 和粘合性质
机译:AlN及其含GaN和InN的三元合金的近能带结构的应变和成分调制
机译:用同步加速器辐射研究宽带隙GaN和薄铝掺杂层的电子和原子结构。
机译:X射线光发射光谱法测量的非极性A面GaN / AlN和AlN / GaN异质结构的能带偏移
机译:纤锌矿结构系统AlN–GaN,GaN–InN和AlN–InN的第一原理相图计算
机译:立方GaN薄膜中生长,氮空位降低和固溶体形成及随后使用alN和InN制备超晶格结构。