机译:通过羟基化学转化稳定(110)四方氧化锆表面
Laboratorio de Quimica Computacional, Centra de Quimica, Instituto Venezolano de Investigaciones Cientificas, Panamerican Street Km. 11.5, Apartado 21827, Caracas, Venezuela, Bolivarian;
Laboratorio de Quimica Computacional, Centra de Quimica, Instituto Venezolano de Investigaciones Cientificas, Apartado 21827, Caracas, Venezuela;
Laboratorio de Quimica Computacional, Centra de Quimica, Instituto Venezolano de Investigaciones Cientificas, Apartado 21827, Caracas, Venezuela;
Universite de Lyon, Institut de Chimie, Laboratoire de Chimie, Ecole Normale Superieure de Lyon and CNRS, 46, allee d'Italie, 69364 Lyon Cedex 07, France;
tetragonal zirconia; (110) surface; hydroxylated (110) surface; surface chemical transformation;
机译:粗磨,涂覆和2粒抛光系统对钇稳定四方氧化锆的弯曲强度,表面粗糙度和相变的影响(Vol 118,PG 658,2017)
机译:粗磨,溢出和2抛光系统对钇稳定四方氧化锆弯曲强度,表面粗糙度和相变的影响
机译:氧化钇稳定的四方氧化锆多晶陶瓷在不同氧化锆表面处理后的力学行为
机译:氧化钇稳定的四方氧化锆多晶体的晶界结构和相变机理
机译:加速人工时效引起的四方相向单斜相转变以及稳定氧化锆中微观结构的影响。
机译:氧化钇稳定的四方氧化锆植入物表面上的初始细菌黏附力。
机译:莫来钛矿/氧化锆复合材料中氧化钇稳定四方氧化锆颗粒的相变。
机译:通过小角度中子散射和差热分析研究了氧化锆的四方 - 单斜转换