...
机译:反应磁控膜涂铝铝和Al-Si-N纳米复合涂层的光学性能
Национальный исследовательский Томский политехнический университет Томск 634050 Россия;
Национальный исследовательский Томский политехнический университет Томск 634050 Россия;
Национальный исследовательский Томский политехнический университет Томск 634050 Россия;
Национальный исследовательский Томский политехнический университет Томск 634050 Россия;
Сибирский физико-технический институт Томского государственного университета Томск 634050 Россия;
нитриды; пленки; покрытия; запрещенная зона; коэффициент поглощения; межзонное поглощение; локализованные состояния; ростовые дефекты;
机译:短脉冲200keV C +离子束和连续350keV He2 +离子束照射对具有各种Si含量的Al-Si-n涂层光学性质的影响
机译:氮分压对磁控溅射Al-Si-N薄膜光学性能的影响
机译:薄壁涂层Al-Si-N摩擦学特性研究中的原子动力显微镜
机译:用Al-Si-N硬化涂层研究高质量的替代碳化物平板可操作性
机译:用光学透明的Al-Si-n纳米复合涂层对K-208玻璃的电阻调查高速微粒的影响