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机译:层厚增加对Cu / Ni多层膜的磁化,电阻率,磁阻和霍尔效应的影响
Physics Department, West Virginia University, Morgantown, WV 26506-6315, USA;
机译:利用各向异性磁阻和平面霍尔效应研究Ta / NiFe / IrMn / Ta多层膜中平行和垂直各向异性电阻率的厚度依赖性
机译:电沉积Ni-Cu / Cu多层膜中的巨磁电阻和脉冲镀Ni_xCu_(1-x)合金膜中的各向异性磁电阻
机译:电沉积Co-Cu / Cu多层膜中Co层厚度的磁性层结构演变的磁和磁阻研究
机译:在较高间隔层厚度的CO / Cu多层磁阻和磁化之间的对应关系
机译:自旋霍尔效应在Pt / Ni80Fe20纳米线中的磁化动力学。
机译:非晶态C / Ni多层膜对Ni诱导的影响绝缘子上多层石墨烯的层交换
机译:用-NI /带/ Cu-Ni多层材料的电阻率
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。