机译:通过钴掺杂和退火来调整氧化锡薄膜的结构,电学和光学性质
Department of Physics, Faculty of Science, Fayoum University, Fayoum 63514, Egypt;
Department of Physics, Faculty of Science, Fayoum University, Fayoum 63514, Egypt;
Nanophotonics and Applications (NPA) Lab, Department of Physics, Faculty of Science, Beni-Suef University, Beni-Suef 62514, Egypt;
Department of Physics, Faculty of Science, Fayoum University, Fayoum 63514, Egypt;
SnO_2 thin films; Raman shift; Spin coating; Ⅰ-Ⅴ characteristics; Refractive index; Conductivity;
机译:掺杂和退火对锡掺杂锌氧化物薄膜结构,电和光学性质的影响
机译:退火对纯Mg掺杂的氧化锡薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:退火温度对掺锑氧化锡薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:钴掺杂浓度对二氧化钛薄膜结构,电学和光学性质的影响
机译:钴,锑掺杂氧化锡(CoO-ATO)薄膜和纳米纤维膜的电,光和热研究
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构,电学和光学性质的影响